簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。

主要特長

  • 對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產。
  • 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
  • 對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
實驗?研究用曝光裝置

主要規格

MA-1200、MA-1300、MA-1400

  MA-1200 MA-1300 MA-1400
基板尺寸 *大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ *大 ?300 *大 400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW 超高壓水銀燈 ：1kW 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1675 x D1400 x H1883 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
本體重量 400kg 700kg(包含無塵機房) 400kg(包含無塵機房)
光源重量 － 250kg 250kg
選購項 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽