產(chǎn)品信息 特點(diǎn) 可在紫外和可見（250至800nm）波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù) 可分析納米級多層薄膜的厚度 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜 通過可變反射角測量，可詳細(xì)分析...
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
● 可在紫外和可見（250至800nm）波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù)
● 可分析納米級多層薄膜的厚度
● 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜
● 通過可變反射角測量，可詳細(xì)分析薄膜
● 通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊功能，增強(qiáng)操作便利性
● 通過層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測量可控制膜厚度/膜質(zhì)量
測量項(xiàng)目
測量橢圓參數(shù)（TANψ，COSΔ）
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
薄膜厚度分析
用途
半導(dǎo)體晶圓 柵氧化膜，氮化膜 SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN 光學(xué)常數(shù)（波長色散）
復(fù)合半導(dǎo)體 AlxGa（1-x）多層膜、非晶硅
FPD 取向膜 等離子顯示器用ITO、MgO等
各種新材料 DLC（類金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜 TiO2，SiO2多層膜、防反射膜、反射膜
光刻領(lǐng)域 g線（436nm）、h線（405nm）、i線（365nm）和KrF（248nm）等波長的n、k評估
原理
包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上，對于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化，可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù)，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。