主營產品：代理銷售：HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀、HITACHI日立科學儀器光譜儀、OTSUKA大塚電子、MIKASA勻膠機、yamada山田鹵素強光燈、KOFLOC小島流量計、REVOX光箱、日本SSD防靜電、HITACHI日立金屬流量計、SIBATA柴田科學、日本ULVAC愛發科泵、CEDAR思達扭力計、TORAY東麗氣體濃度計、KOSAKA小坂臺階儀、TOKYOKEISO東京計裝流量計、AND愛安德、RYUKI東京流機流量計、IMV愛睦威地震儀、TSUBOSAKA壺坂電機、MITAKA三鷹光器、日本KURABO倉紡濃度計.

網站首頁產品目錄品牌導航公司新聞聯系我們

所在位置: 首頁 > 技術文章

日本MIKASA米卡薩株式會社：勻膠機，顯影、涂布機、旋涂機、光刻機

日本MIKASA米卡薩株式會社：勻膠機，顯影、涂布機、旋涂機、光刻機提供技術支持！
日本MIKASA米卡薩株式會社日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵半導體制造工序中的Mikasa半導體設備

晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子、成膜

在高溫擴散爐中，形成、表面氧化膜

電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線

設計圖。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)

光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面，形成厚度均一的薄膜。

旋轉涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復制電路

圖案。

光刻機(P13~P15)

可選組件

顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現貨現貨旋轉涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務。另外，為旋轉涂膜儀的所有機型準備了替代用機，可在發生故障時盡早應對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務。針對研究過程中所發生的一系列問題，也可在現場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現了問題、應如何改進等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備，而是為客戶半導體制造的整體工藝流程。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務。

日本Mikasa 半導體用設備旋涂機

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200

上一篇：日本KURABO倉紡液體成分濃度計:中國售后中心
下一篇：ESD防靜電設備

精品在线视频播放-精品在线免费播放-精品在线观看一区-精品在线观看国产-亚洲 男人 天堂-亚州视频一区二区

日本MIKASA米卡薩株式會社：勻膠機，顯影、涂布機、旋涂機、光刻機

精品在线视频播放-精品在线免费播放-精品在线观看一区-精品在线观看国产-亚洲男人天堂-亚州视频一区二区